2021년 새롭게 달라지는 지식재산 제도

(출처: 특허청)

 

 

특허청은 손해배상범위 확대, 아이디어 탈취에 대한 징벌적 손해배상제도 시행, 중소기업의 특허 조사·분석비용 세액공제 포함, 모바일 특허출원 시스템 도입 등 ‘2021년 새롭게 달라지는 지식재산 제도’를 발표했습니다.

 

주요 내용은 다음과 같습니다.

 

- 지재권 보호강화

- 중소·중견기업 지원

- 지식재산권 획득 편의개선

 

 

(1) 지재권 보호강화

 

구분	상세	시행일자
상표법·디자인보호법·부정경쟁방지법에서도 생산능력을 초과한 판매량에 대한 손해배상액 인정	상표법·디자인보호법·부정경쟁방지법 상 손해배상액의 산정방식을 개선*해 권리자의 생산능력을 초과한 판매량에 대해서도 손해배상을 받을 수 있게 됩니다. * (권리자 및 침해받은 자의 생산가능수량×단위당 이익액) + (초과분×합리적 실시료율) 기존에는 지식재산권자의 생산능력 한도에서만 손해배상을 인정하고 있어서 침해자의 양도수량이 지식재산권자의 생산능력을 초과하는 경우, 침해자가 그 초과수량만큼의 이익을 부당하게 취하게 되어 오히려 지식재산권의 침해가 이득이 상황이 발생할 수 있었습니다. 이러한 문제점을 개선하고자 특허법은 2020년 12월 10일자로 이미 특허권자의 생산능력을 초과하는 판매량에 대해서도 손해배상을 인정하고 있었습니다. 따라서 상표 등의 침해에서도 발생할 수 있는 위와 같은 문제를 해결하고 지식재산 관련 법률이 법적 안정성과 동일성을 갖출 수 있도록, 특허법과 같이 상표법·디자인보호법·부정경쟁방지법에서도 2021년 6월부터 지식재산권자의 생산능력의 한도를 넘어서는 부분에 대해서도 손해배상을 인정하게 됩니다.	‘21년 6월
아이디어 탈취에 대한 징벌적 손해배상제도	고의로 타인의 아이디어를 탈취한 자는 손해로 인정된 금액의 최대 3배까지 배상하여야 합니다.	‘21년 4월
부정경쟁행위 시정권고에 대한 후속조치 등	부정경쟁행위에 대한 시정권고를 따르지 아니할 경우, 부정경쟁행위를 위반한 사실을 관보 등에 공표할 수 있으며(‘21년 4월), 또한 산업재산권분쟁조정과 부정경쟁행위에 대한 행정조사가 동시에 진행되면 행정조사를 중지하고 분쟁조정 결과에 따라 재조사 여부가 결정됩니다.	‘21년 4월
영업비밀 유출 증거를 확보하기 위한 디지털 포렌식 지원	영업비밀 유출이 의심되는 중소기업은 민·형사소송에 필요한 초기 유출증거 확보를 위해 디지털 포렌식을 지원받을 수 있습니다.	‘21년 1월

1)지

재권 보호강화

(2) 중소·중견기업 지원

 

구분	상세	시행일자
특허 조사·분석 비용을 R&D 세액공제 대상에 포함	중소기업이 ‘산업재산권 진단기관*에 지출한 특허 조사·분석 비용을 R&D 세액공제 대상에 포함됩니다. * 일정품질 이상의 민간 특허 조사·분석 기관을 「발명진흥법」에 따라 ‘산업재산권 진단기관’으로 지정	‘21년 1월분부터 적용
중소기업 공동연구시 관납료 감면 혜택 확대	중소기업과 공동연구시 수수료를 감면해주는 대상을 모든 주체로 확대하고 출원료·심사청구료뿐만 아니라 설정등록료도 50% 감면됩니다.	-
소재·부품·장비 분야 수출기업의 특허분쟁 대응지원을 강화	소재·부품·장비 분야 수출기업의 특허분쟁 대응지원을 강화하기 위해 분쟁정보 모니터링을 확대*하고, 분쟁위험 사전진단 및 자문, 분쟁 대응전략**수립을 지원합니다. * (국가) 미국 → 미국, 일본, 유럽, 중국 (정보) 침해소송 → 침해소송, 무효심판, 이의신청 ** (‘20)1년, 6천만원 → (’21)최대 3년, 연간 1억원 한도 內 등	‘21년 1월
글로벌 IP스타기업 IP 서비스 지원 강화	글로벌 IP스타기업(지역의 유망 수출 중소기업)의 해외출원 심사 대응과 등록비용 지원 대상을 특허에서 상표·디자인으로까지 확대합니다.	‘21년 1월

 

 

(3) 지식재산권 획득 편의개선

 

구분	상세	시행일자
스마트폰(모바일)을 통해 출원 및 특허청 민원업무 가능	스마트폰을 활용해 특허·실용신안·디자인권 출원*을 할 수 있게 됩니다. 또한 모바일을 통해 수수료 납부, 통지서 수신 등 대부분의 특허청 민원업무가 가능해집니다. * 모바일 상표권 출원은 ‘20년 3월 이후 시행 中	‘20년 12월
임시명세서의 출원료를 인하	또한 논문이나 연구노트 등을 그대로 출원할 수 있는 임시명세서 제도 활용을 장려하기 위해 출원료를 인하*합니다. * PDF 등 상용소프트웨어로 작성한 임시명세서를 전자출원하는 경우, (특허)56천원→46천원, (실용신안)25천원→20천원	‘21년 3월
디자인 일부심사 제도의 대상 물품류를 확대	디자인 일부심사 제도의 대상 물품류를 식품, 잡화류, 포장용기, 보석·장신구류 등으로 확대 적용됩니다	‘20년 12월
비전형상표의 심사 세부기준 수립 및 입체, 위치상표의 도면 제출건수 완화	새로운 유형의 상표와 동작ㆍ색채상표 등 기존 비전형상표의 심사 세부기준*이 수립됩니다(‘21년 1월). 또한 입체ㆍ위치상표의 도면 제출건수를 완화**하였습니다. * ① 건물의 내ㆍ외관(영업장소)의 상표 표현방법 구체화 ② 위치상표의 범위를 ‘특정위치에 사용되어 식별력을 취득한 색채’까지 확대 ③ 비전형상표의 기능성 판단요소ㆍ구체적 판단 절차 수립 등 ** 입체상표ㆍ위치상표 도면 제출건수를 2~5매에서 1~5매로 완화	‘21년 2월
일괄심사 신청대상이 확대되고 그 요건이 완화	일괄심사* 신청대상이 확대되고 그 요건이 완화됩니다. 유사한 제품으로 이루어진 제품군이나 디지털 서비스 관련도 일괄심사의 대상이 되며, 스타트업도 일괄심사를 이용할 수 있도록 하였습니다(‘20년 12월). 일괄심사를 신청한 출원이 거절결정된 경우는 이에 대한 불복심판을 우선심판 대상에 추가해 권리화 여부를 조기에 심판에서 재검토할 수 있도록 하였습니다(‘21년 3월). *서비스를 포함하는 하나의 제품군에 관련된 복수의 특허 등의 출원에 대하여 출원인이 원하는 시기에 맞추어 일괄적으로 심사하는 제도	‘21년 3월

 

(4) 기타 지식재산 제도

 

△ 시니어 퇴직인력의 특허기반 기술창업 지원(‘21년 1월), △특허심판 사건에서 영상 구술심리 및 기술설명회 확대(‘21년 1월) 등의 제도가 새롭게 시행됩니다.

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