2021년 6월 1일 발효된
새로운 중국 특허법을 위한 심사기준의 변화
I. 개요
2021년 5월 25일, 중국지식재산권국(CNIPA)은 새로운 특허법의 도입과 관련된 심사 기준을 공포하였습니다. 새로운 심사 기준은 2021년 6월 1일부터 발효되었는 바, 주된 내용을 아래와 같이 간략히 안내 드립니다.
1. 중국 특허법 제2조4항 관련
: 파선으로 구분되는 부분디자인의 출원이 가능하게 되었습니다.
2. 중국특허법 제20조1항 및 제29조2항 관련
: 디자인출원에 대하여 신의성실의 원칙이 적용되며, 국내 우선권주장출원이 가능하게 되었습니다.
3. 중국 특허법 제42조1항 관련
: 디자인의 존속기간이 15년으로 연장되었습니다.
2021년 6월 1일부터 출원된 디자인부터 적용되며, 2021년 5월 31일까지 출원된 디자인의 존속기간은 기존과 같이 10년입니다.
4. 중국 특허법 제42조2항 및 제42조3항 관련
: 특허 존속기간 조정(Patent Term Adjustment) 제도와, 특허 존속기간 연장(Patent Term Extension) 제도가 도입되었습니다. 특허권자는 등록일로부터 3개월 내에 특허 존속기간 조정을 신청하거나, 신약이 승인된 날로부터 3개월 이내에 특허 존속기간 연장을 신청할 수 있습니다.
5. 중국 특허법 제50조1항 관련
: 오픈 라이선스(Open License) 제도가 도입되었습니다.
특허권자는 자신의 특허를 자유롭게 사용할 수 있도록 오픈 라이선스를 선언할 수 있습니다.
6. 중국 특허법 제66조
: 피소된 침해자는 중국지식재산권국(CNIPA)에 특허권 평가보고서를 준비할 수 있도록 요구할 수 있게 되었습니다.
중국지식재산권국(CNIPA)은 특허법의 구체적인 시행규정들의 대부분이 공포될 때 까지는, 위 사항의 대부분에 대한 심사를 진행하지 않을 것으로 보입니다.
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