중국지식재산권국(CNIPA)은 2025년 11월 특허 심사지침을 개정하고,
2026년 1월 1일부터 새로운 이중출원(Dual Filing) 규정을 적용하고 있습니다.
그동안 많이 활용되던
‘실용신안 + 발명 특허 동시 출원’ 방식에도 중요한 변화가 생겼는데요,
실무에서 꼭 알아 두셔야 할 핵심 포인트를 카드뉴스로 정리했습니다.
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